日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

主要特点：

1、采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件

2、可处理较厚或较大的样品(选配件)（通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制）

3、记忆功能可存储常用加工条件（5种处理方案）

所有样品需要满足无毒、无腐蚀性、无放射性、无挥发性，生物或者微生物需保证无人体致病性，签订生物安全承诺书。

1、送检样品必须为干燥固体，块状、片状、纤维状、颗粒或粉末状均可

2、样品尺寸：最大样品直径：60 mm;最大样品高度：20 mm；一般情况下，样品尽尺寸≤10×10×5mm ；

3、样品表面必须处理干净，金属试样表面要清理其表面氧化层及污染物  

样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

测试参数设置包括：

1、溅射电压和电流（最大溅射电压0.4KV DC，最大溅射电流40mA DC）

2、压力（7–20Pa）

3、使用的靶材